中微公(gong)司CCP電容式(shi)刻(ke)蝕(shi)機已達到國(guo)(guo)際(ji)最(zui)先進技術水平7nm/5nm，在(zai)存儲器中64層3D NAND已經實現量(liang)產，128層3D NAND穩步推進引領(ling)國(guo)(guo)內大規模(mo)進口(kou)替代(dai)，ICP電感式(shi)突破至(zhi)1Xnm，未來有望導入產線(xian)加大應用；同(tong)時，公(gong)司開啟平臺化發展，參股沈陽拓荊（國(guo)(guo)內PECVD、ALD龍(long)頭）、Solayer（鍍膜(mo)設備）并擬參股上海睿勵(li)（國(guo)(guo)內厚膜(mo)量(liang)測(ce)(ce)設備領(ling)先者），擴大業務領(ling)域，滿足國(guo)(guo)內對薄膜(mo)設備、量(liang)測(ce)(ce)設備的等巨(ju)大需求，順(shun)勢(shi)做(zuo)大做(zuo)強。
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